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NP-M1 中试纳米粒制备系统

Nanoparticle Generator for Pilot Scale

面向 LNP、聚合物纳米粒与乳剂的模块化中试平台:三通道液路、非接触流量反馈、可选液路加热与在线稀释,软件符合 21 CFR Part 11,让实验室配方平稳走向规模化生产。

0–500 mL/min 制备流量室温–80 ℃ 液路加热±1% 流量精度21 CFR Part 11
NP-M1 中试纳米粒制备系统
概述 五大系统 芯片体系 技术参数 应用 常见问题
NP-M1 中试纳米粒制备系统
Overview

为放大而生,为合规而建

NP-M1 是一台中试级纳米制剂制备平台,支持 LNP、聚合物纳米粒、乳剂等纳米制剂的连续化制备。模块化设计支持液路加热、流量反馈、在线稀释与前后废液自动切换等灵活配置;软件内置审计追踪功能,满足 21 CFR Part 11 法规要求,并支持非标定制。

  • 制备流量范围 0–500 mL/min,管路填充体积 < 15 mL
  • 样品温度控制:室温至 80 ℃(可选加热模块)
  • 高压柱塞泵采用红宝石阀芯,高压运行依旧稳定
  • 316L 不锈钢液路可拆卸、可更换、可清洁,满足 cGMP 要求
Advantages

三大核心优势

多芯片多功能

单机可容纳两枚芯片,支持多级串联混合;兼容 LNP、PLGA 纳米粒、脂质体与外泌体载药,芯片拆装清洗便捷,工作流洁净高效。

全程软件控制

模块可独立控制、也可整线并联管理;实时可视化合成进度与设备状态。三级用户权限、密码保护、电子签名与审计追踪确保合规与数据安全。

易清洁易维护

红宝石阀芯高压柱塞泵在高压工况下性能稳定;316L 不锈钢液路可整体更换、拆卸与清洗,全面满足 cGMP 对设备清洁验证的要求。

Integrated Systems

五大集成系统,稳定高效产出 LNP

01

液路控制系统

三条独立输液通道支持连续进样,流量精度 ±1%:

  • 高压通道 1:0–200 mL/min,最高工作压力 10 MPa
  • 高压通道 2:0–300 mL/min,最高工作压力 10 MPa
  • 常压通道:0–2000 mL/min
02

流量测量系统

双非接触式质量流量计实时监测,量程 0–20 kg/h 与 0–30 kg/h,针对高密度液体预留充足量程裕度,确保测量精度始终如一。

03

可选加热系统

样品入口、管路与芯片同步加热,温度范围室温至 80 ℃,控温精度 ±2 ℃,满足各类纳米颗粒合成的温度工艺需求。

04

前后废液切换系统

实时响应、快速切换,精心设计的流道彻底杜绝废液回流风险,确保收集产品的纯净与稳定。

05

可选液体混合器(芯片)

提供涡旋混合(Vortex)、撞击流混合(T-mix)与分流重组合(SAR)三种标准化芯片设计,材质可选 316L 不锈钢与哈氏合金,亦可根据需求定制金属芯片。

定制化服务

支持非标定制:通道配置、加热模块、在线稀释单元等均可按工艺需求灵活组合。先进的芯片设计与制造团队为特殊流道结构提供全程定制支持。

Mixing Chips

芯片体系

三种标准化混合架构 + 全定制流道,覆盖从工艺开发到中试生产的全部混合需求。

撞击流混合芯片(T-mix)

放大生产表现优异:结构简单、流阻低、流量上限高,是众多领先疫苗企业与纳米粒生产工厂的首选设计。提供多种流道宽度,可按不同生产条件的流量需求定制。

涡旋混合芯片(Vortex)

新型混合架构,支持 2–4 路液体入口。低流量下性能媲美 T-mix;流量升高后粒径更小、PDI 更低。同样广泛适用于 PLGA 聚合物纳米粒与脂质体制备。

分流重组合(SAR)与定制芯片

标准化 SAR 芯片适合温和逐级混合;针对特殊设计与工艺需求,芯片设计与制造团队提供流道结构全定制服务。

芯片规格
芯片类型材质最大流量最大压力
撞击流混合芯片(Impinging Jet)316L 不锈钢(或哈氏合金)200 / 300 / 400 mL/min10 MPa
涡旋混合芯片(Vortex)316L 不锈钢(或哈氏合金)500 mL/min10 MPa
定制芯片(Custom)316L 不锈钢(或哈氏合金)按需定制10 MPa
Specifications

技术参数

实验技术参数
制备流量范围0 – 500 mL/min
管路填充体积< 15 mL(双高压柱塞泵 + 涡旋芯片典型配置,不含外接管路)
样品温度控制室温 – 80 ℃(可选加热模块,精度 ±2 ℃)
芯片结构撞击流混合(T-mix)、涡旋混合(Vortex)、分流重组合(SAR)
芯片材质316L 不锈钢或哈氏合金(Hastelloy)
管路材质316L 不锈钢
液路与整机参数
通道配置2 条高压液路 + 1 条常压液路
高压通道流量通道 1:0–200 mL/min;通道 2:0–300 mL/min(精度 ±1%,最高工作压力 10 MPa)
常压通道流量0 – 2000 mL/min
流量计2 台非接触式质量流量计(0–20 kg/h;0–30 kg/h)
控制方式外接电脑控制(含审计追踪,符合 21 CFR Part 11)
环境要求温度 4 – 40 ℃;湿度 < 90%
电源要求220 V ± 5%,50 Hz,10 A(可按要求提供变压器)
外形尺寸(L×W×H)62 × 75 × 107 cm
Applications

应用场景

LNP 中试生产

mRNA 疫苗与核酸药物 LNP 的工艺放大与中试批生产,参数与台式平台同源,放大一致性有保障。

聚合物纳米粒生产

PLGA 等可降解聚合物纳米粒的中试制备,为缓释制剂走向临床提供工艺数据。

化妆品纳米粒与乳剂

活性成分纳米载体与乳化体系的连续化中试生产,提升产品均一性与生产效率。

NP-M1 五大集成系统示意
Workflow

连续化生产的完整闭环

从原液连续进样、实时流量反馈、多级混合、在线稀释到前后废液自动切换,NP-M1 把中试生产组织为一条稳定运行的整体产线——每一步状态都被软件完整记录,满足审计与溯源要求。

  • 支持连续进样,适配批量生产节奏
  • 实时可视化合成进度与仪器状态
  • 模块独立控制 / 整线并联管理自由切换
FAQ

常见问题

实验室优化好的配方,放大到 NP-M1 后粒径会变化吗?
NP-M1 与台式平台采用同源的微流控混合原理与芯片设计,TFR/FRR 参数体系一致。配合 T-mix 或 Vortex 芯片的多种流道宽度选择,可在放大过程中保持一致的混合动力学,实现平稳放大。Vortex 芯片在高流量下还能获得更小粒径与更低 PDI。
软件如何满足法规合规要求?
软件按照 21 CFR Part 11 的要求与法规设计和开发,内置三级用户权限控制、密码保护、电子签名与审计追踪功能,操作记录全程留痕,满足受监管环境下的数据完整性要求。
设备如何满足 cGMP 清洁要求?
液体输送通路采用 316L 不锈钢管路,可按需更换、拆卸与清洗;高压柱塞泵使用红宝石阀芯,耐高压且性能稳定,整套液路设计满足 cGMP 对设备清洁验证的要求。
可以做哪些定制?
NP-M1 支持非标定制:通道数量与量程配置、液路加热模块、在线稀释单元、废液切换逻辑等均可按工艺需求组合;芯片团队还可为特殊工艺定制流道结构。
最大流量和耐压是多少?
涡旋芯片最大流量 500 mL/min,撞击流芯片提供 200/300/400 mL/min 多种规格;高压通道最高工作压力均为 10 MPa。
设备对场地有什么要求?
外形尺寸 62 × 75 × 107 cm,220 V ± 5% / 50 Hz / 10 A 供电(可按要求配变压器);环境温度 4–40 ℃、湿度 < 90% 即可。
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